A1000PC是面向于工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)的原子層沉積系統(tǒng)，低溫鍍膜設(shè)計(jì)可以在各種3維基板上沉積高質(zhì)量光學(xué)薄膜。
A1000PC是面向于工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)的原子層沉積系統(tǒng)，低溫鍍膜設(shè)計(jì)可以在各種3維基板上沉積高質(zhì)量光學(xué)薄膜。
在塑料基板上優(yōu)異的薄膜保形性和附著性
經(jīng)國(guó)際認(rèn)證機(jī)構(gòu)認(rèn)可的ALD系統(tǒng)設(shè)計(jì)
正常運(yùn)行時(shí)間和產(chǎn)能
可兼容基板自動(dòng)化裝載
適用于工業(yè)4.0的先進(jìn)控制系統(tǒng)
| 尺寸 | 寬3220 長(zhǎng)4300 高2800mm(亦可定制化) | 沉積薄膜 | Al2O?，SiO?，TiO? | 等離子體 | ICP |
| 前驅(qū)體源 | 4液態(tài) 2氣體 | 基板 | 平面或三維 | 裝載量 | Φ335mm*40pcs |
| 工藝溫度 | <130℃ | 薄膜均勻性 | Al2O?,SiO? <±2%, TiO?<±3% | 裝載方式 | 半自動(dòng) |
在塑料基板上優(yōu)異的薄膜保形性和附著性
經(jīng)工業(yè)化檢驗(yàn)認(rèn)證的ALD系統(tǒng)設(shè)計(jì)
正常運(yùn)行時(shí)間和產(chǎn)能
可兼容基板自動(dòng)化裝載
適用于工業(yè)4.0的先進(jìn)控制系統(tǒng)
真正的批量式低溫氧化硅沉積工藝
良好的批量式二氧化鈦均勻性
可對(duì)塑料鏡頭進(jìn)行等離子前處理
高裝載量的批量式原子層沉積系統(tǒng)
業(yè)內(nèi)常用的量產(chǎn)式設(shè)備
已驗(yàn)證的高重復(fù)可靠性
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